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全自动双腔半导体快速退火炉RTP

RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用6寸8寸片快速热退火制程。

产品详情

RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用6寸8寸片快速热退火制程。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统，确保了极好的热均匀性。