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RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4-12 英寸片。
RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4-12 英寸片。相对于传统扩散炉退火系统和其他 RTP 系统，其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的 RL900 软件控制系统，确保了极好的热均匀性。
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